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更新時(shí)間:2026-04-13
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| 品牌 | 川納儀器 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,綜合 |
連續(xù)進(jìn)料小型精餾塔CNJL-5真空蒸餾精餾柱技術(shù)參數(shù):
不銹鋼精餾塔技術(shù)參數(shù) | CNJL-2 | CNJL-5 | CNJL-10 | CNJL-20 | CNJL-50 | CNJL-100 |
主體設(shè)備材質(zhì) | SUS304 | SUS304 | SUS304 | SUS304 | SUS304 | SUS304 |
塔釜容積(L) | 2 | 5 | 10 | 20 | 50 | 100 |
塔直徑/mm(內(nèi)徑) | 25mm | 25mm | 32mm | 32mm | 40mm | 40mm |
收集罐容積(L) | 1 | 2 | 5 | 10 | 20 | 50 |
收集罐數(shù)量/個(gè) | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 | 2 |
精餾塔填料有效高度(m) | 1 | 1 | 2 | 2 | 2 | 2 |
精餾塔柱是否分段 | 否 | 否 | 是 | 是 | 是 | 是 |
精餾塔柱伴熱方式 | 電熱絲 | 電熱絲 | 電熱絲 | 電熱絲 | 電熱絲 | 電熱絲 |
精餾塔主體設(shè)備總高度(mm) | ≈2770 | ≈2800 | ≈3350 | ≈3500 | ≈4200 | ≈4500 |
塔釜加熱(加熱形式依據(jù)客戶實(shí)際應(yīng)用可選) | 電加熱套 | 電加熱套 | 電加熱套 | 電加熱套 | 導(dǎo)熱油 | 導(dǎo)熱油 |
塔釜的工作溫度(℃) | 室溫+10℃-300℃ | 室溫+10℃-300℃ | 室溫+10℃-300℃ | 室溫+10℃-300℃ | 室溫+10℃-300℃ | 室溫+10℃-300℃ |
精餾塔的使用方式主要有連續(xù)精餾和間歇精餾兩種?,分別適用于不同規(guī)模與生產(chǎn)需求的工業(yè)場(chǎng)景。
1. ?連續(xù)精餾?
原料從塔中部?持續(xù)進(jìn)料?,塔頂和塔底也?連續(xù)采出產(chǎn)品?,整個(gè)過(guò)程處于穩(wěn)定操作狀態(tài)。
適用場(chǎng)景?:大規(guī)模、長(zhǎng)期運(yùn)行的工業(yè)生產(chǎn),如石油煉制、化工大宗產(chǎn)品分離(甲醇、苯-甲苯等)。
核心優(yōu)勢(shì)?:生產(chǎn)效率高、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定、能耗相對(duì)較低。
設(shè)備組成?:通常包括精餾塔、再沸器、冷凝器、回流罐、進(jìn)料預(yù)熱器等,形成完整連續(xù)流程。
操作要點(diǎn)?:需嚴(yán)格控制回流比、溫度分布、壓力穩(wěn)定,確保分離效果*優(yōu)。
2. ?間歇精餾?
原料?一次性加入塔釜?,通過(guò)分批方式進(jìn)行分離,塔頂產(chǎn)品隨時(shí)間逐步采出,塔釜?dú)堃鹤詈笈懦觥?/p>
適用場(chǎng)景?:小批量、多品種生產(chǎn),常見于精細(xì)化工、制藥、實(shí)驗(yàn)室研發(fā)及有機(jī)溶劑回收。
核心優(yōu)勢(shì)?:操作靈活,適合處理成分變化頻繁或數(shù)量較少的物料。
結(jié)構(gòu)特點(diǎn)?:通常?只有精餾段,無(wú)提餾段?,多采用填料塔以減少持液量影響。
操作模式?:
恒回流比操作?:回流比不變,餾出液純度逐漸下降;
恒餾出液組成操作?:通過(guò)不斷增大回流比,維持餾出液純度恒定。
使用注意事項(xiàng)(通用)
安全防護(hù)?:操作前檢查密封性、儀表狀態(tài),穿戴防護(hù)裝備,防止高溫、高壓、有毒物質(zhì)泄漏風(fēng)險(xiǎn)。
溫度與壓力控制?:避免超溫超壓,防止設(shè)備損壞或發(fā)生爆炸事故(如1991年日本千葉工廠精餾塔爆炸案例)。
定期維護(hù)?:清理塔內(nèi)結(jié)垢、檢查塔板或填料堵塞情況,確保傳質(zhì)效率。
啟動(dòng)順序?:先通冷卻水 → 啟動(dòng)再沸器加熱 → 調(diào)節(jié)回流比至設(shè)定值,防止氣液失衡。
連續(xù)進(jìn)料小型精餾塔CNJL-5真空蒸餾精餾柱產(chǎn)品特征:
與物料接觸材質(zhì):SUS304不銹鋼或其他不銹鋼材質(zhì)
塔釜容積:1-500L,可定制其他
塔高:0.5-5m,可定制其他高度
*高加熱溫度:300℃
*低可操作真空:≤0.1mbar

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